形状测量激光显微系统
VK-X3000 系列
形状测量激光显微系统 VK-X3000 系列
搭载白光干涉功能
纳米/微米/毫米一台即可完成测量
超越激光显微镜的限制，以三重扫描方式应对
- 一台即可测量纳米/ 微米/ 毫米
- 一台即可了解希望获取的信息
- 最高分辨率0.01 nm
采用了三重扫描方式，运用激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理，高倍率和低倍率，平面、凹凸表面的细微粗糙度，以及镜面体，透明体等。VK拥有应对多种样品的测量能力（从 1 nm 到 50 mm），纳米/微米/毫米一台完成测量。
产品特性
激光显微系统的基本特点
观察
从光学显微镜到SEM领域一台设备涵盖
- 42 至 28800 倍
- 无需对焦
- 适用于多种样品
测量
非接触瞬间扫描形状
- 不会损伤目标物
- 纳米级别也可准确测量
- 透明体和坡度大的目标物也可测量
分析
希望了解的表面“差异”一目了然
- 定量化微小形状
- 轻松比较多个样品
- 粗糙度分析
三重扫描方式
解决“难以测量”的难题
可根据样品工件的材料、形状和测量范围，选择激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理，进行高精度测量。
最高分辨率0.01 nm
即使是纳米级的微小形状变化也能准确测量。
此外，如镜面体、透明体等测量难度高的材料也能实现高速、高精度、大范围的测量。
连高度差较大的凹凸处
和大范围区域也能测量
最大扫描区域50 mm见方。
凹凸不平或手掌大小的物体也能整体扫描。
只需一台设备，即可同时掌握整体形状和局部形状。
精确测量高倍率和低倍率。平面和凹凸面。
适用于各种目标物的测量能力
